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浅析超纯水设备制取超纯水在光学领域的应用

2016-05-18 09:49

超纯水的水质纯度已经成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,因此光学领域对水质的要求也越来越高。

超纯水设备
超纯水设备

在生产中,高纯水主要用作纯水清洗和纯水配液,不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。清洗需用纯水,如水中含有氯离子,电容器就会漏电。在电子管生产中,电子管阴极涂甫碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命。

因此其配液要使用纯水,在显象管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含奇有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。

在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏水中的颗粒(包括细菌)如吸咐在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。

超纯水设备
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